半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

       半導(dǎo)體行業(yè)中的超純水，又名UP水，主要是半導(dǎo)體原材料生產(chǎn)加工、檢測(cè)和半導(dǎo)體器件的制備用水。電?元器件對(duì)超純水使?水質(zhì)要求高。市場(chǎng)環(huán)境變化使得元器件尺寸縮小與精細(xì)度上升，使得超純水水質(zhì)與水量的技術(shù)指標(biāo)不斷提升。超純水制備主要包括以下三個(gè)階段，即初步吸附過(guò)濾階段、反滲透凈化階段和樹(shù)脂離子交換階段。其中，離子交換是將水中的正離子與離子交換樹(shù)脂中的H+離?交換，水中的負(fù)離子與離子交換樹(shù)脂中的OH-離子交換，從而達(dá)到純化水的目的。

       我公司半導(dǎo)體行業(yè)用超純水出水水質(zhì)完全符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

電子工業(yè)用超純水工藝大致分成以下3種：

　　1、采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式：

            原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式：

           原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕?/span>：

           原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)

我司半導(dǎo)體工業(yè)超純水設(shè)備特點(diǎn)：

　　電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設(shè)備可靠性。